Análisis topológico del Laplaciano de la densidad electrónica de un catalizador para HDS de MoS2 dopado con Ni y Fe.

• David Coll Instituto Venezolano de Investigaciones Científicas-Venezuela
• Yosslen Aray Instituto Venezolano de Investigaciones Científicas-Venezuela
• Jesús Rodríguez Instituto Venezolano de Investigaciones Científicas-Venezuela
• Alba Vidal 2Instituto Venezolano de Investigaciones Científicas-Venezuela
• Rafael íñez Instituto Venezolano de Investigaciones Científicas-Venezuela

Abstract

Se llevó a cabo el análisis topológico del Laplaciano de la densidad electrónica para la superficie (100) del MoS2, pura y dopada con Ni o Fe. Se encontró que la presencia de los dopantes induce diferentes cambios sobre la morfología de los grafos del átomo de Mo más externo. Cuando el átomo de Ni está presente, se observa un sitio de desconcentración de carga, idealmente expuesto para la entrada de cualquiera de los máximos de concentración, o vértices, del grafo del S del tiofeno lo que promovería la interacción tipo ácido-base Lewis. En cambio cuando el Fe es el dopante, el átomo de Mo expone un máximo de concentración de carga, lo cual desfavorece la interacción con el átomo de azufre de la molécula de tiofeno.