Estudio teórico de la adsorción de oxígeno sobre la cara (100) del siluro de hierro
Abstract
El método MINDO/SR ha sido utilizado para estudiar las propiedades electrónicas y enlazantes de la cara (100) del siluro de hierro monocristalino y la adsorción de oxígeno sobre esta superficie. Se elaboraron dos agregados de 24 átomos para modelar la superficie FeSi(100). Se realizaron cálculos de adsorción de oxígeno atómico y molecular sobre los átomos de la superficie y sobre cierto número de sitios interatómicos. En los agregados, los enlaces entre Fe y Si son del tipo sp-sp con muy poca participación directa de los orbitales d de los átomos de Fe. Los átomos de oxígeno se adsorben preferiblemente sobre los átomos de silicio y no en los átomos de hierro. Se determinó que la adsorción de oxígeno molecular es un proceso disociativo y los átomos de oxígeno disociados quedan coordinados mayoritariamente a átomos de silicio superficiales.
